Thema: „Challenges in Lithography“

Dr. Ing. Ferry Zijp ist seit 2013 in der Forschungsabteilung von ASML als optischer Wissenschaftler tätig.

Derzeit konzentriert sich seine Arbeit auf das optische Systemdesign für ASMLs Wafer-Messsysteme der nächsten Generation. 1995 machte er seinen Bachelorabschluss in Angewandter Physik an der Fontys Hogeschool Eindhoven. Er begann seine Tätigkeit als Forschungswissenschaftler bei den Philips Research Laboratories im Bereich des Lichtwegdesigns für optische Datenspeicherung mit hoher Dichte. Er promovierte 2007 an der Technischen Universität Delft mit einer Arbeit über „Near-Field Optical Data Storage“, die auf seiner Arbeit bei Philips Research basierte. Im selben Jahr wurde er Projektleiter bei Philips Lighting im Bereich Beleuchtungsoptik-Design.

 

Dr. Ing. Ferry Zijp has been an optical scientist at the Research department of ASML since 2013. At present his work focuses on optical system design for ASML’s next generation wafer metrology systems.

In 1995 he earned his bachelor’s degree in Applied Physics at Fontys Hogeschool Eindhoven. He started working as a Research Scientist at Philips Research Laboratories in the field of lightpath design for high density optical data storage. He earned his doctorate in 2007 at the Technical University of Delft with a thesis on „Near-Field Optical Data Storage“, which was based on his work at Philips Research. In the same year he became project leader at Philips Lighting in the field of illumination optics design.

Quelle